[发明专利]一种消反结构以及制造方法在审
| 申请号： | 202111325551.1 | 申请日： | 2021-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN113985503A | 公开（公告）日： | 2022-01-28 |
| 发明（设计）人： | 史瑞;娄飞;孙佳怡 | 申请（专利权）人： | 深圳市雕拓科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市惠邦知识产权代理事务所 44271 | 代理人： | 满群 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明揭示一种消反光结构以及制造方法，反光结构包括阵列设置的亚波长的纳米结构和形成在所述纳米结构上且呈透明的多个微米结构，其中多个微米结构的密度小于阵列设置的纳米结构的密度；所述微米结构的高度高于所述纳米结构的高度。发明通过在纳米蛾眼结构的基础上，加入微米结构，微米结构可以选择硬度相对较大的材料，可以有效的实现既有消反光的效果，又有耐刮擦的效果的结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 结构 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市雕拓科技有限公司，未经深圳市雕拓科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111325551.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种高温高压二维剖面模型含油饱和度测试装置
- 下一篇：一种黄瓜苦味防治方法
