[发明专利]量子点基板的制作方法及量子点基板有效
| 申请号： | 202111127939.0 | 申请日： | 2021-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN113871555B | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 石志清 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H10K71/12 | 分类号： | H10K71/12;H10K71/15;H10K59/121;C25D13/12;C25D13/22 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 黄锐 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请实施例公开了一种量子点基板的制作方法及量子点基板，量子点基板的制作方法包括以下步骤：在第一电极和第二电极之间添加具有量子点材料的量子点溶液；对第一电极和第二电极施加电压，使得第一电极和第二电极之间形成电场；改变电场的电场强度，使得量子点材料在至少两种电场强度的电场下沉积于第一电极，从而在第一电极上形成量子点材料层，可以解决采用电泳沉积制作量子点材料层难以保证量子点材料层的形貌规整且具有较高的光转化率的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 量子 点基板 制作方法 | ||
【主权项】：
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