[发明专利]掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置有效
| 申请号： | 202110930986.2 | 申请日： | 2021-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN113625529B | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 侯广杰;谢超;叶小龙 | 申请（专利权）人： | 深圳市龙图光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H05F3/04;B08B5/02 |
| 代理公司： | 深圳壹舟知识产权代理事务所(普通合伙) 44331 | 代理人： | 欧志明 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属涉及一种掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置，包括：除尘吹气接头，用于将吹气组件吹出的气导向光斑区域，其中，所述光斑区域为激光经所述光刻机镜头后落在所述掩模版上形成的区域，所述吹气除尘接头的出气口与所述光斑区域在垂直于所述掩模版的方向上错位设置。本发明能够在曝光过程中清除掩模版表面颗粒，从而解决了在检查完成后的传递和装载过程中仍然会有部分灰尘落到掩模版表面，并产生掩模版黑缺陷，影响产品良率的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 模版 曝光 过程 表面 颗粒 实时 清除 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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