[发明专利]掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置

说明书

本发明属涉及一种掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置，包括：除尘吹气接头，用于将吹气组件吹出的气导向光斑区域，其中，所述光斑区域为激光经所述光刻机镜头后落在所述掩模版上形成的区域，所述吹气除尘接头的出气口与所述光斑区域在垂直于所述掩模版的方向上错位设置。本发明能够在曝光过程中清除掩模版表面颗粒，从而解决了在检查完成后的传递和装载过程中仍然会有部分灰尘落到掩模版表面，并产生掩模版黑缺陷，影响产品良率的问题。

技术领域

本发明属涉及一种掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置。

背景技术

在掩模版光刻环节的曝光前，光刻人员会用射灯检查掩模版表面的灰尘，但是在检查完成后的传递和装载过程中仍然会存在一些灰尘落到掩模版表面的情况，如此，在曝光过程中，这些灰尘会遮挡住激光，导致被灰尘覆盖位置的光刻胶不能被有效曝光，从而产生掩模版黑缺陷，影响产品良率。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术的不足，提供了一种掩模版表面颗粒曝光实时清除装置，其旨在解决光刻人员在检查掩模版表面的灰尘完成后的传递和装载过程中仍然会存在一些灰尘落到掩模版表面的情况，并导致曝光过程中，被灰尘覆盖位置的光刻胶不能被有效曝光，从而产生掩模版黑缺陷，影响产品良率。

本发明是这样实现的：

一种掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置，与光刻机镜头配合使用，其中，所述光刻机镜头用于将激光导向掩模版，以进行曝光，所述掩模版曝光过程表面颗粒实时清除装置包括：

除尘吹气接头，用于将吹气组件吹出的气导向光斑区域，其中，所述光斑区域为激光经所述光刻机镜头后落在所述掩模版上形成的区域，所述吹气除尘接头的出气口与所述光斑区域在垂直于所述掩模版的方向上错位设置。

可选地，所述除尘吹气接头的导气方向与所述掩模版的板面之间形成的夹角a为35°～40°。

可选地，所述吹气除尘接头与所述光刻机镜头之间的位置相对固定。

可选地，还包括静电消除器，所述静电消除器连接于所述除尘吹气接头，并用于使经所述除尘吹气接头吹出的气体带正负电荷。

可选地，还包括：

颗粒收集引导头，与外部的抽取组件连接配合，并与所述掩模版间隔设置，所述除尘吹气接头、所述光刻机镜头和所述颗粒收集引导头在第一方向上依次设置，所述第一方向与所述掩模版的板面平行，所述颗粒收集引导头朝向所述光刻机镜头的侧面为气流引导面，所述气流引导面到所述掩模版的距离在所述第一方向上减缩设置，所述颗粒收集引导头在朝向所述掩模版的侧面开设有的蓄流槽，各所述蓄流槽的延伸方向平行第二方向，所述第二方向与所述第一方向交错设置，所述蓄流槽的槽底开设有至少一个颗粒收集孔，各所述颗粒收集孔连通至所述抽取组件。

可选地，所述蓄流槽的两侧槽壁均与槽底光滑过渡，所述蓄流槽的两侧槽壁与所述颗粒收集引导头朝向所述掩模版的侧面光滑过渡。

可选地，所述第二方向与所述第一方向垂直设置。

可选地，所述颗粒收集引导头到所述掩模版的距离小于所述光刻机镜头到所述掩模版的距离。

可选地，所述蓄流槽至少设有两个，各所述蓄流槽在所述第一方向依次间隔设置。

可选地，各所述蓄流槽的槽深在所述第一方向上渐小设置。

基于本发明，能够在曝光过程中清除掩模版表面颗粒，从而解决了在检查完成后的传递和装载过程中仍然会有部分灰尘落到掩模版表面，并产生掩模版黑缺陷，影响产品良率的问题。

附图说明