[发明专利]光伏组件的制备方法与光伏组件在审

专利信息
申请号: 202110894797.4 申请日: 2021-08-05
公开(公告)号: CN115706187A 公开(公告)日: 2023-02-17
发明(设计)人: 陈海燕;蒋方丹;吴坚 申请(专利权)人: 嘉兴阿特斯技术研究院有限公司
主分类号: H01L31/20 分类号: H01L31/20;H01L31/05;H01L31/02;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 代理人: 段友强
地址: 314000 浙江省嘉兴市秀*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 本申请提供了一种光伏组件的制备方法与光伏组件,所述制备方法包括采用焊带将沿第一方向依次排布的若干异质结电池串联为一体,在连接有焊带的异质结电池表面制备纳米银线薄膜,得到电池串,所述纳米银线薄膜覆设在所述异质结电池表面及连接至该异质结电池表面的焊带上;再将电池串放置在两张封装胶膜之间;层压,使得所述电池串与封装胶膜结合为一体。所述纳米银线薄膜与异质结电池表面及相应的焊带相结合,提高电流收集与传输性能,降低异质结电池的银浆耗量与材料成本;也能减少电池表面的金属栅线,降低遮光损失,提升光伏组件的转换效率。
搜索关键词: 组件 制备 方法
【主权项】:
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  • 本发明提供了一种超掺杂硅薄膜HJT电池及其制备方法,其中,所述制备方法包括:对晶体硅衬底进行湿法清洗制绒;在晶体硅衬底两侧表面沉积形成本征非晶硅薄膜;在本征非晶硅薄膜远离晶体硅衬底的两侧的表面分别沉积形成P型与N型非晶硅薄膜;在P型非晶硅薄膜和N型非晶硅薄膜远离本征非晶硅薄膜的两侧表面形成P+型超掺杂硅薄膜和N+型超掺杂硅薄膜;使用丝网印刷机和低温Ag浆正、背面印刷Ag电极。所述超掺杂硅薄膜HJT电池采用上述制备方法制备得到。本发明的有益之处在于,电池加工步骤简单,电池光电转换效率高。
  • 太阳电池及其制作方法-202310584216.6
  • 薛建锋;廖劼;苏世杰 - 通威太阳能(成都)有限公司
  • 2023-05-23 - 2023-07-18 - H01L31/20
  • 本发明提供了太阳电池及其制作方法。制作太阳电池的方法包括:提供硅膜片;在硅膜片的正面涂覆正面非感光油墨,正面非感光油墨具有多个间隔设置的第一通孔,第一通孔暴露出硅膜片;在第一通孔中填充正面感光油墨,正面感光油墨包括相邻设置的第一限位部分和第一填充部分,第一限位部分设置且覆盖在第一通孔的侧壁上,第一限位部分限定出第一预定尺寸孔洞,第一填充部分位于第一预定尺寸孔洞内;对第一限位部分进行曝光;去除第一填充部分;在去除第一填充部分的位置处形成正面栅线;去除正面非感光油墨和第一限位部分。非栅线的至少部分区域通过非感光油墨层代替感光油墨,大大降低太阳电池的成本,同时保证正面栅线的尺寸精度。
  • 一种背接触式硅异质结太阳能电池及其制备方法-202210016391.0
  • 蔡永安 - 隆基绿能科技股份有限公司
  • 2022-01-07 - 2023-07-18 - H01L31/20
  • 本发明公开一种背接触式硅异质结太阳能电池及其制备方法,涉及太阳能电池制造领域,用于解决太阳能电池制备工艺复杂的问题。该制备方法通过第一掩膜遮住第二区域和隔离区域,在第一区域上完成第一掺杂层和第一电极的制作;之后,将第一掩膜剥离,再通过第二掩膜遮住隔离区域和第一区域,在第二区域上连续完成第二掺杂层和第二电极的制作,之后,将第二掩膜剥离,隔离区域没有形成任何膜层。该制备方法能够自然形成P区和N区的隔离,不需要单独通过光刻工序、湿化学刻蚀工艺或激光刻蚀工艺将P区和N区隔离,大大简化了制备工艺。本发明提供的背接触式硅异质结太阳能电池采用本发明中的制备方法制备得到。
  • 一种栅线制备方法、异质结电池的制备方法及异质结电池-202310636875.X
  • 王伟;黎力;田宏波;李世岚;宿世超 - 国家电投集团新能源科技有限公司
  • 2023-06-01 - 2023-07-14 - H01L31/20
  • 本发明涉及太阳能电池技术领域,具体公开了一种栅线制备方法、异质结电池的制备方法及异质结电池,包括制备异质结电池基底,并在异质结电池基底正背面沉积透明导电薄膜层;在沉积透明导电薄膜层表面沉积金属种子层;在正面金属种子层表面印刷感光油墨,采用投影扫描曝光电池正表面制备正面掩膜;采用显影液对第二电池片中间体正面未曝光的栅线显影出栅线图形;在电池片背面及侧面采用热熔蜡进行喷墨使在背面及侧面制备掩膜;并进行电镀使电池片正背面得到铜栅线;除去第三电池片中间体正背侧面掩膜,用氧化物及稀硫酸蚀刻电镀金属种子层,上述方法有效降低电池片生产成本,同时提高电池生产良率,工艺更加简单,异质结电池制备效率更高。
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