[发明专利]一种适用于坩埚的面蒸发源结构在审

专利信息
申请号: 202110852132.7 申请日: 2021-07-27
公开(公告)号: CN113388815A 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 张麒麟 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: C23C14/26 分类号: C23C14/26;C23C14/54
代理公司: 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 代理人: 戴雨君
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开一种适用于坩埚的面蒸发源结构,其包括至少两个坩埚腔室,每个坩埚腔室放置一个坩埚和对应的子蒸发源,子蒸发源包括热电偶和加热丝,加热丝均布在坩埚腔室内侧壁,热电偶安装在坩埚腔室的底部;坩埚腔室的上端设有盖板,盖板上对应基板区域设有盖板通孔,盖板与坩埚接触的内表面设有加热装置;坩埚包括坩埚本体和上盖,坩埚本体由分隔板隔成若干独立区域,上盖间隔分布有若干开孔,上盖对应非映射基板区域设有至少一个斜孔,沿斜孔方向设置镀率检测仪器,镀率检测仪器检测沿斜孔扩散的蒸镀材料以获取坩埚材料镀率;坩埚的开孔与盖板通孔相对应,且坩埚开孔直径小于盖板通孔的直径。本发明有利于提高蒸发源内材料受热均匀性。
搜索关键词: 一种 适用于 坩埚 蒸发 结构
【主权项】:
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