[发明专利]一种卷对卷双面数字化激光直写曝光机及曝光对位方法有效
| 申请号： | 202110763479.4 | 申请日： | 2021-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN113589656B | 公开（公告）日： | 2023-10-13 |
| 发明（设计）人： | 白国梁;梅文辉;汪孝军;罗覃东;洪俊辉;麻秀芝 | 申请（专利权）人： | 杭州新诺微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 伍传松 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州市萧*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种卷对卷双面数字化激光直写曝光机及曝光对位方法，方法包括：首次曝光时：标定三组对位相机的位置；捕捉曝光卷料边缘并确定三组标记点，通过三组标记点的坐标获取偏移角度和曝光区域；根据偏移角度和曝光区域进行曝光；标记两颗Mark点；第二次曝光时：重新标定三组对位相机的位置；捕捉上一次曝光标记的两颗Mark点并进行校对；捕捉曝光卷料其中一侧边的边缘并确定两组标记点，通过两组标记点和两颗Mark点的坐标获取偏移角度和曝光区域；比较偏移角度与可调角度和极限角度以确定曝光图形的偏转角度；根据偏转角度和曝光区域进行曝光操作；标记新的两组Mark点；后续曝光时重复第二次曝光时的步骤。本发明可实现对曝光卷料进行精确连续曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 数字化 激光 曝光 对位 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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