[发明专利]半色调掩膜板、显示基板的制作方法及显示基板在审
申请号: | 202110692445.0 | 申请日: | 2021-06-22 |
公开(公告)号: | CN113419399A | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 余雪;徐姗姗;李梁梁;邱文彪;林滨;付婉霞;席文星 | 申请(专利权)人: | 福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/40 | 分类号: | G03F1/40 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜春咸;冯建基 |
地址: | 350300 福建省*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种半色调掩膜板,所述半色调掩膜板包括金属遮光图形,所述金属遮光图形包括多个图形部,所述金属遮光图形还包括静电释放导线,至少一对相邻的图形部之间连接有所述静电释放导线,对于至少一对被所述静电释放导线电连接的图形部而言,至少其中一个图形部包括图形部本体和形成在所述图形部本体的边缘处的缺口,所述静电释放导线的端部伸入所述缺口中,并与所述图形部本体电连接。通过半色调掩膜板上的缺口结构,能够降低半色调掩膜板本身的ESD风险,且能改善曝光后显示基板金属图形上的毛刺影响,也降低了多层搭接场景由于毛刺引起的ESD风险。本发明还提供一种使用所述半色调掩膜板的显示基板的制作方法及一种由所述方法制得的显示基板。 | ||
搜索关键词: | 色调 掩膜板 显示 制作方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110692445.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备