[发明专利]垂直型存储器及制备方法有效

专利信息
申请号: 202110587059.5 申请日: 2021-05-27
公开(公告)号: CN113314531B 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 刘金营 申请(专利权)人: 上海积塔半导体有限公司
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 卢炳琼
地址: 200120 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种垂直型存储器及制备方法,通过在第一逻辑单元及第二逻辑单元之间形成存储单元,可制备具有2T1C的单元结构的垂直型存储器,从而可缩小垂直型存储器的尺寸;在制备的2T1C的单元结构中,当通过第一逻辑单元向存储结构的第二极板存储电子,第二逻辑单元向存储结构的第一极板存储空穴,即可定义为1、当通过第一逻辑单元向存储结构的第二极板存储空穴,第二逻辑单元向存储结构的第一极板存储电子,即可定义为‑1、当两者都不存储时,则可定义为0,从而通过2T1C的单元结构可实现存储1.5bit的结构,从而本发明可同时实现垂直型存储器的小型化及多功能应用。
搜索关键词: 垂直 存储器 制备 方法
【主权项】:
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