[发明专利]利用AMAT PVD腔体制备吸气剂的方法及其薄膜吸气剂在审
| 申请号： | 202110294941.0 | 申请日： | 2021-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN113061854A | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 王世宽 | 申请（专利权）人： | 上海松尚国际贸易有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/16;B01J20/30;B01J20/28 |
| 代理公司： | 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 | 代理人： | 杨立秋 |
| 地址： | 200000 上海市浦东新区中国(*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及吸气剂制备技术领域，具体涉及一种利用AMAT PVD腔体制备吸气剂的方法及其薄膜吸气剂，包括如下步骤：步骤1、配备清洗硅片的腐蚀溶液，其中腐蚀溶液主要由NAOH和异丙醇溶液制成，备用；步骤2、将硅片按顺序依次放入丙酮、酒精和超纯水中，依次进行超声清洗，备用；步骤3、将步骤2清洗完成后的硅片放入步骤1已经配制好的腐蚀溶液中浸泡，在85‑95°C的温度下加热50min；步骤4、将步骤3浸泡完毕后的硅片用超纯水进行超声清洗，完成后用甩干机进行甩干；步骤5、将步骤4清洗甩干后的硅片放入PVD设备中进行工艺处理，且PVD设备工艺腔内安装好的合金靶材成分为ZR‑CO‑RE；实现了用AMAT PVD设备生产薄膜吸气剂的可行性；由此可以解决量产薄膜吸气剂的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 amat pvd 体制 吸气 方法 及其 薄膜 | ||
【主权项】：
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