[发明专利]一种处理半导体DPY工艺的废气处理装置有效
| 申请号： | 202110286355.1 | 申请日： | 2021-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN113058356B | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 杨春水 | 申请（专利权）人： | 北京京仪自动化装备技术股份有限公司 |
| 主分类号： | B01D47/02 | 分类号： | B01D47/02;F23G7/06 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张建利 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种处理半导体DPY工艺的废气处理装置，包括侧壁和顶盖，顶盖盖合于侧壁的顶部，顶盖设置有与燃烧腔连通的废气入口，侧壁的底部设置有与燃烧腔连通的废气出口，侧壁的内部形成有夹层空腔，侧壁内表面的上部设置有连通夹层空腔与燃烧腔的出水口，侧壁的外表面设置有与夹层空腔连通的进水口。通过在侧壁的内部形成有夹层空腔，并在侧壁内表面的上部设置有连通夹层空腔与燃烧腔的出水口，从而形成水淋结构，水通过进水口进入夹层空腔，充满夹层空腔后通过出水口流出并沿着侧壁的内表面向下流动；向下流动的水将硅烷生成的二氧化硅粉尘冲刷到设备底部的水箱中，减少在燃烧腔内壁的堆积堵塞，防止粉尘附着，延长设备的维护周期。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 处理 半导体 dpy 工艺 废气 装置 | ||
【主权项】：
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