[发明专利]阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法在审

专利信息
申请号: 202110285004.9 申请日: 2021-03-17
公开(公告)号: CN113097223A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 唐甲;张晓星 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 张晓薇
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请公开了一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法。阵列基板包括依次设置的衬底基板、薄膜晶体管层和平坦层;其中,薄膜晶体管层包括沿远离衬底基板依次设置的多层导电结构层,导电结构层包括沿远离衬底基板依次设置的导电层和绝缘层,绝缘层包括与导电层重叠的第一区域,以及与第一区域相邻的第二区域,至少一层导电结构层的绝缘层的第一区域的厚度小于第二区域的厚度。本申请实施例通过使导电结构层中绝缘层的第一区域的厚度小于第二区域的厚度,可以在阵列基板制程中对导电层进行多重分段平坦化,逐次消除导电层堆叠造成的段差,从而改善阵列基板像素基底的平坦度。
搜索关键词: 阵列 显示 面板 制作方法
【主权项】:
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