[发明专利]带有具有设计的开放空隙空间的突起结构的CMP抛光垫在审
申请号: | 202110269948.7 | 申请日: | 2021-03-12 |
公开(公告)号: | CN113442057A | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | J·R·麦考密克;B·E·巴尔顿 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/26 | 分类号: | B24B37/26;B24B1/00 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 徐鑫;陈哲锋 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种可用于化学机械抛光的抛光垫包括具有顶侧的基垫和在所述基垫的所述顶侧上的多个突起结构,所述突起结构中的每一个具有主体,其中所述主体具有(i)限定所述突起结构的外部形状的外周表面,(ii)限定中心腔的内部表面以及(iii)限定初始抛光表面积的顶部表面,其中所述主体在其中进一步具有从所述腔至所述外周表面的开口。 | ||
搜索关键词: | 带有 具有 设计 开放 空隙 空间 突起 结构 cmp 抛光 | ||
【主权项】:
暂无信息
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