[发明专利]一种刻蚀液再生装置、刻蚀系统装置和刻蚀方法在审
申请号: | 202110266851.0 | 申请日: | 2021-03-11 |
公开(公告)号: | CN113046563A | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 蒋新;张帆;施利君;宋金林 | 申请(专利权)人: | 苏州晶洲装备科技有限公司 |
主分类号: | C22B7/00 | 分类号: | C22B7/00;C22B58/00;C22B25/06;H01L21/67;H01L21/465 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋 |
地址: | 215555 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一种刻蚀液再生装置、刻蚀系统装置和刻蚀方法,所述的刻蚀系统装置包括循环连接的所述刻蚀液再生装置和刻蚀装置,所述的再生装置包括注入有刻蚀液的壳体,所述壳体外接有循环管路,所述循环管路分为独立的回收支路和循环支路接入所述壳体内,所述回收支路上设置有回收器,所述回收器用于回收刻蚀液中金属离子。本发明中,当刻蚀液中金属离子浓度较高时,启用回收支路上的回收器,对刻蚀液中的金属离子进行回收,使得刻蚀液中的酸液浓度始终保持在工艺控制范围内,不仅提高了刻蚀液的使用寿命,而且提高了关联产品的稳定性,具有结构简单、便于操作、再生效果好和成本低等特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 刻蚀 再生 装置 系统 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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