[发明专利]一种刻蚀液再生装置、刻蚀系统装置和刻蚀方法在审
| 申请号： | 202110266851.0 | 申请日： | 2021-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN113046563A | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 蒋新;张帆;施利君;宋金林 | 申请（专利权）人： | 苏州晶洲装备科技有限公司 |
| 主分类号： | C22B7/00 | 分类号： | C22B7/00;C22B58/00;C22B25/06;H01L21/67;H01L21/465 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 215555 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 再生 装置 系统 方法 | ||
1.一种刻蚀液再生装置，其特征在于，所述的再生装置包括注入有刻蚀液的壳体，所述壳体外接有循环管路，所述循环管路分为独立的回收支路和循环支路接入所述壳体内，所述回收支路上设置有回收器，所述回收器用于回收刻蚀液中金属离子。
2.根据权利要求1所述的再生装置，其特征在于，所述的回收器内填充有回收剂；
优选地，所述回收剂包括离子树脂和萃取剂；
优选地，所述离子树脂包括叔胺离子交换树脂；
优选地，所述萃取剂包括2-乙基己基磷酸酯；
优选地，所述回收剂通过聚乙烯醇包膜材料包覆。
3.根据权利要求1或2所述的再生装置，其特征在于，所述的循环管路的进口端接入所述壳体的底部；
优选地，所述回收支路和循环支路合并为一路后接入所述壳体内；
优选地，所述回收支路和循环支路合并为一路后接入所述壳体内液面以上。
4.根据权利要求1-3任一项所述的再生装置，其特征在于，所述回收器的进口端和出口端分别设置有电磁阀；
优选地，所述循环管路上设置有循环泵。
5.根据权利要求1-4任一项所述的再生装置，其特征在于，所述的壳体内设置有浓度传感器，所述浓度传感器用于检测壳体内刻蚀液中酸液的浓度；
优选地，所述再生装置还包括与浓度传感器电性连接的控制器，所述控制器还分别独立电性连接所述回收器进口端和出口端的电磁阀，所述控制器用于接收浓度传感器的反馈信号，并反馈控制所述电磁阀的开启。
6.一种包括权利要求1-5任一项所述的刻蚀液再生装置的刻蚀系统装置，其特征在于，所述的刻蚀系统装置包括循环连接的所述刻蚀液再生装置和刻蚀装置。
7.根据权利要求6所述的系统装置，其特征在于，所述的刻蚀装置包括刻蚀槽，所述刻蚀槽内设置有喷淋组件，所述喷淋组件用于喷淋刻蚀基板；
优选地，所述壳体外接有排放管路，所述排放管路接入所述的喷淋组件；
优选地，所述排放管路上沿物料流向依次设置有物料泵和过滤器；
优选地，所述刻蚀槽底部连接有回流管路，所述回流管路接入所述壳体。
8.一种采用权利要求6或7所述的刻蚀系统装置的刻蚀方法，其特征在于，所述的刻蚀方法包括：
刻蚀液再生装置内的刻蚀液进入刻蚀装置对基板进行刻蚀，刻蚀后的刻蚀液回流至刻蚀液再生装置，回收器回收刻蚀液中的金属离子，对刻蚀液进行再生。
9.根据权利要求8所述的刻蚀方法，其特征在于，所述的刻蚀方法具体包括以下步骤：
(Ⅰ)壳体内的刻蚀液进入排出管路，经过滤器过滤后进入喷淋组件，并对基板进行刻蚀，刻蚀后的刻蚀液经回流管路流回壳体内，壳体内液体经循环支路在壳体内循环流动；
(Ⅱ)浓度传感器检测到壳体内刻蚀液的酸液浓度低于下限浓度时，控制器反馈控制开启回收器进口端和出口端的电磁阀，刻蚀液流入回收支路经回收器回收金属离子后，回流至壳体内；浓度传感器检测到壳体内刻蚀液的酸液浓度高于上限浓度时，控制器反馈控制关闭回收器进口端和出口端的电磁阀。
10.根据权利要求9所述的刻蚀方法，其特征在于，所述的刻蚀液包括H2C2O4、H2SO4或HNO3中的一种或至少两种的组合；
优选地，所述刻蚀液包括H2C2O4、H2SO4和HNO3；
优选地，所述刻蚀液包括H2C2O4和H2SO4；
优选地，所述下限浓度为2～4wt％；
优选地，所述上限浓度为13～15wt％。
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