[发明专利]研磨装置及研磨方法在审
申请号: | 202110256116.1 | 申请日: | 2021-03-09 |
公开(公告)号: | CN114074286A | 公开(公告)日: | 2022-02-22 |
发明(设计)人: | 坂下干也;側瀬聡文;中村昂平;松井之辉 | 申请(专利权)人: | 铠侠股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/005 | 分类号: | B24B37/005;B24B37/10;B24B37/34;B24B57/02;B24B27/00;H01L21/304 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 杨林勳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 实施方式提供一种能够适当地修正设置在衬底上的膜的膜厚的研磨装置及研磨方法。根据一实施方式,研磨装置具备能够保持设置有膜的衬底的第1衬底保持部。所述装置还具备能够保持第1垫的第1垫保持部。所述装置还具备第1驱动部,所述第1驱动部通过使所述第1垫在所述膜的表面平移而利用所述第1垫研磨所述膜。 | ||
搜索关键词: | 研磨 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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