[发明专利]基板处理装置和基板处理方法在审
| 申请号： | 202110054109.3 | 申请日： | 2021-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN113176709A | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 松永浩一 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够进行基板面内的氟树脂膜的形成范围的调节。基板处理装置具备：疏水化处理部，其构成为进行疏水化处理，在该疏水化处理中通过疏水化处理用的疏水化气体的蒸镀来在基板的表面形成疏水化膜；紫外线照射部，其构成为通过向基板的背面中的去除区域照射紫外线，来去除在疏水化处理中形成于去除区域的疏水化膜；以及树脂膜形成部，其构成为在去除了疏水化膜后的去除区域形成氟树脂膜。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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