[发明专利]用于光学装置的多深度膜在审
| 申请号： | 202080026802.3 | 申请日： | 2020-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN113646668A | 公开（公告）日： | 2021-11-12 |
| 发明（设计）人： | 卡尔·J·阿姆斯特朗;卢多维克·戈代;布莱恩·亚历山大·科恩;韦恩·麦克米兰;詹姆斯·D·斯特拉斯纳;本杰明·里奥登 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G02B1/12 | 分类号： | G02B1/12;G02B5/02 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容的实施方式涉及形成用于制造光学装置的多深度膜。一个实施方式包含在基板的表面上设置装置材料的基底层。装置材料的一个或多个心轴设置在基底层上。设置一个或多个心轴的步骤包含在基底层上方定位掩模。在掩模位于基底层上方的情况下沉积装置材料以形成光学装置，该光学装置具有具基底层深度的基底层及具有第一心轴深度与第二心轴深度的一个或多个心轴。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 装置 深度 | ||
【主权项】：
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- 本发明提供了一种提高光学薄膜元件抗激光损伤能力的方法，包括：首先获得光学薄膜元件的功能性损伤阈值；之后进行光学薄膜元件的覆层处理和激光诱导等离子体冲击后处理：获得经过不同扫描参数激光诱导离子体后处理作用后的所有薄膜元件功能性损伤阈值；选择其中最大的功能性损伤阈值作为光学薄膜元件的最优功能性损伤阈值，其对应的脉宽和扫描参数为最优参数；采用所述最优参数对光学薄膜元件进行激光诱导等离子体后处理来提高光学薄膜元件抗激光损伤能力。本发明可同时降低薄膜中的结构型和吸收型缺陷的缺陷密度，又可改善薄膜界面间的结合力等力学性能，解决了目前现有后处理技术只对少部分薄膜元件类型有效且提升效果也有限的难题。
- 一种渐变色镜片染色装置-202021890337.1
- 熊安贵 - 重庆瑛美光学科技有限公司
- 2020-09-02 - 2021-03-26 - G02B1/12
- 本实用新型涉及渐变色镜片染色领域，尤其为一种渐变色镜片染色装置，包括工作台、控制箱和过滤网，所述工作台与控制箱滑动连接，所述工作台右端面固定连接有控制器，所述控制箱顶端面内侧固定连接有温度感应器，所述控制箱与过滤网固定连接，本实用新型中，通过设置的第一电机、丝杆、滑块和风箱，当温度感应器感应到控制箱内部温度过高时，温度感应器通过控制器控制风机转动，对控制箱内部进行散热，同时温度感应器也通过控制器控制第一电机转动，第一电机转动带动丝杆转动，丝杆转动带动滑块滑动，滑块滑动带动风箱上下运动，从而在使用时对控制箱内部散热更均匀，散热效果更好，不会出现控制箱内部元件因温度高而损伤的情况。
- 专利分类
