专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种提高单层GaSe光催化性能的方法-CN202211003332.6在审
  • 葛传鹏;邓洪祥;祖小涛 - 电子科技大学长三角研究院(湖州)
  • 2022-08-19 - 2022-12-02 - G06F30/20
  • 本发明专利涉及光催化技术领域,尤其指一种提高单层GaSe光催化性能的方法。包括S1、单层硒化镓的优化:首先利用根据块状硒化镓的晶体结构获得二维GaSe的晶体结构。然后再对单层的GaSe进行高精度结构优化,最后计算基本的性质;S2、构件多种异质结构:选择组成异质结的另一种材料重复上述的操作。使用MS软件将两种单层二维材料堆叠在一起形成异质结;S3、选择异质结:对不同的异质结进行高精度结构优化并计算它们的结合能,选择出结合能最小的异质结进行后续的研究;对选中的异质结进行更高精度的结构优化;S4、计算异质结相关参数;S5、施加双轴应变后再计算其光吸收。该方法能够提高了电子空穴的氧化还原能力,提高光催化的效率。
  • 一种提高单层gase光催化性能方法

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