[实用新型]一种卷料冷却装置及原子层沉积设备有效

专利信息
申请号: 202020669901.0 申请日: 2020-04-27
公开(公告)号: CN212109201U 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: 李哲峰;乌磊 申请(专利权)人: 深圳市原速光电科技有限公司
主分类号: F25D31/00 分类号: F25D31/00;F25D25/04;C23C16/455
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 薛福玲
地址: 518000 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型提供了一种卷料冷却装置及原子层沉积设备,其中卷料冷却装置包括支架、限位辊和冷水辊。本实用新型技术方案通过在支架上设置限位辊,两限位辊平行设置,同时在支架上设置冷水辊,冷水辊的轴线与限位辊的轴线平行,且冷水辊位于两限位辊之间,冷水辊的轴线与两限位辊的轴线之间的连线的角度小于70度,当卷料依次经过限位辊、冷水辊和另一限位辊后,卷料贴附在冷水辊的表面,并由于两限位辊的限位作用,使得卷料与冷水辊之间的接触面积达到最大。通过冷水辊内的水流,能够快速降低卷料的温度。
搜索关键词: 一种 冷却 装置 原子 沉积 设备
【主权项】:
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