[发明专利]一种发光二极管及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202011615651.3 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN112652691A 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 朱酉良;马爽;蒋振宇;闫春辉 申请(专利权)人: 深圳第三代半导体研究院
主分类号: H01L33/40 分类号: H01L33/40;H01L33/00
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 李庆波
地址: 518000 广东省深圳市龙*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请涉及半导体技术领域,具体公开了一种发光二极管及其制造方法,该发光二极管包括:外延层,包括第一半导体层;半导体电极,半导体电极设置于第一半导体层上,并与第一半导体层接触,其中半导体电极与第一半导体层具有相同的掺杂类型;金属电极,设置于半导体电极背离第一半导体层的一侧,并与半导体电极形成欧姆接触,其中半导体电极的禁带宽度低于第一半导体层的禁带宽度。通过上述方式,本申请能够解决现有技术中因高温退火工艺而引起的技术问题,降低制造成本,并提高发光二极管的辐射功率。
搜索关键词: 一种 发光二极管 及其 制造 方法
【主权项】:
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