[发明专利]掩模版的显影方法以及掩模版的显影装置在审
| 申请号： | 202011594786.6 | 申请日： | 2020-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN112506010A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 侯广杰;叶小龙 | 申请（专利权）人： | 深圳市龙图光电有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;G03F7/30 |
| 代理公司： | 深圳壹舟知识产权代理事务所(普通合伙) 44331 | 代理人： | 寇闯 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明属于掩模版制造技术领域，尤其涉及一种掩模版的显影方法以及掩模版的显影装置，其中，掩模版的显影方法包括：将去离子水喷淋至一平铺放置的铬膜掩模版的铬膜表面，以通过持续向铬膜掩模版的铬膜表面喷淋去离子水而使铬膜掩模版铬版表面正版温度一致，并在铬膜掩模版的表面正版形成一层水膜；将一显铬版显影液喷淋至铬膜掩模版的铬膜表面；将二显铬版显影液喷淋至铬膜掩模版的铬膜表面，二显铬版显影液的显影液浓度高于一显铬版显影液的显影液浓度，二显铬版显影液的喷淋速度低于一显铬版显影液的喷淋速度。本发明提高了膜掩模版的图像尺寸的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 模版 显影 方法 以及 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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