[发明专利]一种超构表面耦合元件的制作方法有效
| 申请号： | 202011286914.0 | 申请日： | 2020-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN112394449B | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | 胡跃强;姜玉婷;张毅;郭晓明;段辉高;宋强;马国斌;徐晓波 | 申请（专利权）人： | 深圳珑璟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/136 | 分类号： | G02B6/136;G02B6/13;G02B6/122 |
| 代理公司： | 深圳市六加知识产权代理有限公司 44372 | 代理人： | 孟丽平 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区桃源街道塘朗社区信宜五*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例涉及光学技术领域，特别涉及一种超构表面耦合元件的制作方法。本发明实施例中提供了一种超构表面耦合元件的制作方法，包括：将所需超构表面耦合元件的相位分布匹配预设结构数据库，获得目标纳米结构单元，根据目标纳米结构单元获得超构表面耦合元件的加工版图，其中，预设结构数据库包括至少两个纳米结构单元和其对应的相位响应分布图；提供一衬底，在衬底上镀一层金属或电介质材料的薄膜；在薄膜上涂布一层光刻胶；根据加工版图，进行光刻、刻蚀和去胶，得到超构表面耦合元件的模板；将模板压印至波导基底，得到超构表面耦合元件。通过本发明制作的超构表面耦合元件能够应用于光波导中，不仅能消色差，且加工难度低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 表面 耦合 元件 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳珑璟光电科技有限公司，未经深圳珑璟光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011286914.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
