[发明专利]耦合结构和同轴腔体滤波器有效

专利信息
申请号: 200910159153.X 申请日: 2009-07-17
公开(公告)号: CN101599569A 公开(公告)日: 2009-12-09
发明(设计)人: 朱太标;袁进华;巨刚;周显刚;张辉 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H01P5/00 分类号: H01P5/00;H01P1/205
代理公司: 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 彭愿洁;李文红
地址: 518129广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种耦合结构和使用该耦合结构的同轴腔体滤波器,该耦合结构包括:耦合底座、安装在耦合底座上的耦合部件,耦合部件的第一耦合端从耦合底座的第一表面上伸出,耦合部件的第二耦合端从耦合底座的第二表面上伸出,第一表面和第二表面相对,耦合底座还包括:位于耦合底座上的第一卡槽和第二卡槽,耦合部件可选择地通过第一卡槽或第二卡槽与耦合底座固定连接,以使得可根据耦合部件的位置来调整耦合结构的耦合状况。本发明耦合结构可以容易地实现至少两种不同的耦合量,从而适应不同的应用场景。
搜索关键词: 耦合 结构 同轴 滤波器
【主权项】:
1、一种耦合结构,包括:耦合底座、安装在所述耦合底座上的耦合部件,所述耦合部件的第一耦合端从所述耦合底座的第一表面上伸出,所述耦合部件的第二耦合端从所述耦合底座的第二表面上伸出,所述第一表面和所述第二表面相对,其特征在于,所述耦合底座还包括:位于所述耦合底座上的第一卡槽和第二卡槽,所述耦合部件可选择地通过所述第一卡槽或第二卡槽与所述耦合底座固定连接,以使得可根据所述耦合部件的位置来调整所述耦合结构的耦合状况。
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