[发明专利]柔性InGaZnO薄膜晶体管制备方法在审

专利信息
申请号: 202011176695.0 申请日: 2020-10-29
公开(公告)号: CN112420847A 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 宋家琪;郑克丽 申请(专利权)人: 深圳技术大学
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/336;H01L29/06
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 黄广龙
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种柔性InGaZnO薄膜晶体管制备方法。包括:提供柔性PI衬底,在所述柔性PI衬底上依次形成缓冲层、ITO栅极、高K介质层,对所述高K介质层进行准分子激光退火,在所述高K介质层上形成InGaZnO有源层,通过光刻和显影工艺,在所述InGaZnO有源层上形成源极和漏极的光刻胶图形,对所述InGaZnO有源层进行准分子激光退火,在所述InGaZnO有源层上形成金属薄膜,通过光刻胶的剥离工艺形成源极和漏极。通过使用准分子激光退火,可实现纳米尺度下的局域性退火,对特定的薄膜区域实现温度提升,有效避免了全结构的热效应,降低柔性衬底材料玻璃化温度的限制。
搜索关键词: 柔性 ingazno 薄膜晶体管 制备 方法
【主权项】:
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