[发明专利]零部件、耐等离子体涂层的形成方法和等离子体反应装置在审
| 申请号： | 202011037205.9 | 申请日： | 2020-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN114277340A | 公开（公告）日： | 2022-04-05 |
| 发明（设计）人： | 孙祥;段蛟;陈星建 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28;C23C14/08;C30B33/12 |
| 代理公司： | 深圳中创智财知识产权代理有限公司 44553 | 代理人： | 文言;田宇 |
| 地址： | 200120 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及等离子体刻蚀的技术领域，公开了一种耐等离子体涂层的形成方法、零部件和等离子体反应装置，所述零部件包括零部件本体和耐等离子体涂层；所述耐等离子体涂层为结晶相的钇铝化合物结晶，位于所述零部件本体的表面，所述钇铝化合物结晶还包括稀土元素。钇铝化合物结晶涂层具有更好的耐腐蚀特性，更好地保护零部件本体在等离子体刻蚀工艺过程中不被腐蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 零部件 等离子体 涂层 形成 方法 反应 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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