[发明专利]一种NADA阶梯结构的形成方法

摘要

本发明提供一种NADA阶梯结构的形成方法，提供由两层材料交替堆叠构成的堆叠结构，形成光刻胶将堆叠结构的一端露出；将堆叠结构分为n等分，每一等分包含m个叠层；刻蚀至留下m个叠层不被刻蚀，形成第一大台阶；将第一大台阶刻蚀至留下第一大台阶底部的m个叠层不刻蚀，形成第二大台阶；重复至形成第n台阶为止；沉积第一、第二硬掩膜层；刻蚀去除水平部分的硬掩膜层形成侧墙；在水平部分上形成光刻胶图形，刻蚀至去除一个叠层的深度为止；光刻胶图形修边并刻蚀至去除一个叠层的深度为止；重复至将第一至第n台阶分别形成m个单台阶为止。本发明一道光刻条件下可形成更多台阶结构，有利于减少3D NAND工艺制造中的光刻工艺步骤数量，降低工艺成本。