[发明专利]磁性存储器结构、读写方法及电子设备在审
申请号: | 202011001144.0 | 申请日: | 2020-09-22 |
公开(公告)号: | CN112201747A | 公开(公告)日: | 2021-01-08 |
发明(设计)人: | 李四华 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
主分类号: | H01L43/08 | 分类号: | H01L43/08;G11C11/16 |
代理公司: | 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479 | 代理人: | 高园园 |
地址: | 430074 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种磁性存储器结构、读写方法及电子设备,属于存储器设计及制造领域,磁性存储器结构包括:自旋轨道转矩层,自旋轨道转矩层的两端分别连接写选择线及地线;第一自由磁层,位于自旋轨道转矩层上;隧穿层,位于第一自由磁层上;第二自由磁层,位于隧穿层上,第二自由磁层连接读选择线,第二自由磁层的面积小于第一自由磁层的面积。本发明的磁性存储器结构具有快速、节能的特点,同时可实现多层单元(MLC)及多位存储,具有高密度和低成本的优点。 | ||
搜索关键词: | 磁性 存储器 结构 读写 方法 电子设备 | ||
【主权项】:
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