[发明专利]量子点薄膜的无光刻胶光致图案化方法有效
申请号: | 202010586651.9 | 申请日: | 2020-06-24 |
公开(公告)号: | CN111781803B | 公开(公告)日: | 2021-10-26 |
发明(设计)人: | 张昊;李景虹;卢少勇 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F7/20;C09K11/88;C09K11/70;C09K11/66;C09K11/56;C09K11/02 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 王海燕 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种量子点薄膜的无光刻胶光致图案化方法,该方法包括如下步骤:a、将量子点分散在非极性溶剂中,加入光敏交联分子,制成薄膜;b、将所述步骤a中的薄膜在365nm紫外光照射下曝光,发生交联反应;c、采用非极性溶剂洗脱除去未经紫外光照射曝光区域的量子点,得到图案化的量子点薄膜。本发明的方法普遍适用于多种不同组分、性质和结构的量子点薄膜的图案化,图案分辨率可以达到10微米以下,与传统光刻技术的分辨率相近并且优于打印方法所获得的量子点薄膜分辨率,获得的含有不同颜色红、绿、蓝量子点的薄膜具有较高的光致发光效率,可以用于LED等显示器件以及其他基于量子点的光电器件中。 | ||
搜索关键词: | 量子 薄膜 光刻 胶光致 图案 方法 | ||
【主权项】:
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