[发明专利]布线结构在审

专利信息
申请号: 202010353689.1 申请日: 2020-04-29
公开(公告)号: CN111863771A 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 黄文宏 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L23/528 分类号: H01L23/528;H01L23/522;H01L21/768
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 蕭輔寬
地址: 中国台湾高雄市楠梓*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供一种布线结构,其包含至少一个上部导电结构、下部导电结构和中间层。所述上部导电结构包含至少一个上部介电层、与所述上部介电层接触的至少一个上部电路层以及电连接到所述上部电路层的至少一个接合部分。所述下部导电结构包含至少一个下部介电层和与所述下部介电层接触的至少一个下部电路层。所述中间层安置于所述上部导电结构与所述下部导电结构之间并且将所述上部导电结构和所述下部导电结构接合在一起。所述上部导电结构电连接到所述下部导电结构。
搜索关键词: 布线 结构
【主权项】:
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