[发明专利]OPC图形生成方法有效

专利信息
申请号: 202010159531.0 申请日: 2020-03-09
公开(公告)号: CN111258177B 公开(公告)日: 2023-07-07
发明(设计)人: 王聪玉;金晓亮 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 罗雅文
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 本申请公开了一种OPC图形生成方法,涉及半导体光刻技术领域。该方法包括生成基础图形生成库,基础图形生成库用于生成基础图形,基础图形的形状包括线型和孔型;调用基础图形生成库,根据预定设计图形生成基础图形,并组合基础图形生成初始OPC图形;利用加权函数和初始OPC图形中的线端位置确定待添加的头部图形的尺寸,加权函数用于计算线端的权重;根据待添加的头部图形的尺寸,对初始OPC图形中的线端添加对应的头部图形,得到目标OPC图形;解决了目前大量生成OPC图形效率低、容易出错的问题;达到了自动生成OPC图形,优化对OPC图形的仿真结果,提高OPC图形的生成速度和准确率的效果。
搜索关键词: opc 图形 生成 方法
【主权项】:
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