[发明专利]成膜装置和成膜方法在审
| 申请号： | 201980090999.4 | 申请日： | 2019-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN113366139A | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 今北健一;小野一修;北田亨;佐藤圭祐;五味淳;横原宏行;曽根浩 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/58;H01L43/10;H01L43/12 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 成膜装置具备：处理容器；基板保持部，其在处理容器内保持基板；靶电极，其配置于基板保持部的上方，用于保持由金属构成的靶，并向靶提供来自电源的电力；氧化气体导入机构，其向基板供给氧化气体；以及气体供给部，其向靶配置空间供给非活性气体。从靶发射出该靶的构成金属来作为溅射粒子以在基板上沉积金属膜，通过从氧化气体导入机构导入的氧化气体对金属膜进行氧化来形成金属氧化膜。在氧化气体被导入时，气体供给部向靶配置空间供给非活性气体，使该靶配置空间的压力与处理空间的压力相比成为正压。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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