[实用新型]一种双面曝光机掩膜版的对准安装系统有效
| 申请号： | 201921401474.1 | 申请日： | 2019-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN210428092U | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 李明之;朱伟杰;肖福登 | 申请（专利权）人： | 爱司凯科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 | 代理人： | 王桂名 |
| 地址： | 510000 广东省广州市中*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种双面曝光机掩膜版的对准安装系统，其特征在于，其包括用于安装上掩膜版的上框系统、用于安装下掩膜版的对准系统、用于升降对准系统的Z轴系统和控制系统；所述的Z轴系统设于对准系统的两侧，上框系统位于对准系统上方；所述的控制系统分别与上框系统、对准系统和Z轴系统连接。本实用新型通过对准单元实现下掩膜版和下掩膜版的对准，能够防止曝光时图案错位，提高曝光质量，通过对准单元能够完成多方向和角度的调整，对准精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 双面 曝光 机掩膜版 对准 安装 系统 | ||
【主权项】：
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