[实用新型]一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置有效
| 申请号： | 201920630996.2 | 申请日： | 2019-05-06 |
| 公开（公告）号： | CN209974867U | 公开（公告）日： | 2020-01-21 |
| 发明（设计）人： | 陈开龙 | 申请（专利权）人： | 深圳市沃克力技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02 |
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| 地址： | 518111 广东省深圳市龙岗*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，包括清洗罐，清洗罐上端设有开口，清洗罐上端固定连接有驱动件，驱动件的驱动端固定连接有搅拌件，搅拌件贯穿开口设置并延伸至清洗罐内，清洗罐靠近底部的右侧内壁上连通设置有出液管，清洗罐底部上设有出料件，清洗罐下端固定连接有若干支撑柱。本实用新型通过驱动电机带动若干搅拌杆对清洗罐内的溶液进行搅拌，使得溶液与物体上的离子源充分反应，同时搅拌杆上的清洗刷能够在搅拌中对清洗罐内壁进行刷洗，防止离子源附着在清洗罐内壁上，通过超声波发生器和换能器，配合物体和溶液反应时进行超声清洗，使得离子源能够快速与物体分离，提升清洗的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗罐 清洗 离子源 本实用新型 罐内壁 搅拌杆 搅拌件 驱动件 超声波发生器 真空镀膜设备 离子源清洗 超声清洗 开口设置 连通设置 驱动电机 溶液反应 上端固定 物体分离 右侧内壁 出料件 出液管 换能器 清洗刷 驱动端 支撑柱 上端 附着 下端 开口 延伸 贯穿 配合 应用 | ||
【主权项】：
1.一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，包括清洗罐(1)，其特征在于，所述清洗罐(1)上端设有开口(2)，所述清洗罐(1)上端固定连接有驱动件(3)，所述驱动件(3)的驱动端固定连接有搅拌件(4)，所述搅拌件(4)贯穿开口(2)设置并延伸至清洗罐(1)内，所述清洗罐(1)靠近底部的右侧内壁上连通设置有出液管(5)，所述清洗罐(1)底部上设有出料件(6)，所述清洗罐(1)下端固定连接有若干支撑柱(7)，左侧两根所述支撑柱(7)的左端侧壁上固定连接有清洗件(8)，所述清洗件(8)贯穿清洗罐(1)左侧内壁设置。/n
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