[发明专利]一种扫描式激光辅助微弧氧化装置及方法有效
申请号: | 201911355524.1 | 申请日: | 2019-12-25 |
公开(公告)号: | CN110904485B | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
发明(设计)人: | 吴国龙;陆丹华;姚建华;王晔 | 申请(专利权)人: | 浙江工业大学 |
主分类号: | C25D11/02 | 分类号: | C25D11/02;C25D11/06;C25D11/26 |
代理公司: | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人: | 黄美娟;朱思兰 |
地址: | 310014 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明提供了一种扫描式激光辅助微弧氧化装置及方法,本发明装置无电解槽尺寸束缚,无需超大功率电源,可以进行局部强化或修复处理,降低能耗、提高成膜效率及膜层质量,能够降低微弧氧化起弧电压与能耗,使微弧氧化更容易进行,更快进入到成膜阶段,能够实现对大尺寸工件或复杂型面工件的加工,解决传统加工装置中的面积效应和尖端放电现象,降低工件尺寸对电源输出功率的限制,通过对极间电场的控制,实现特定区域微弧氧化。 | ||
搜索关键词: | 一种 扫描 激光 辅助 氧化 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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