[发明专利]一种扫描式激光辅助微弧氧化装置及方法有效

专利信息
申请号: 201911355524.1 申请日: 2019-12-25
公开(公告)号: CN110904485B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 吴国龙;陆丹华;姚建华;王晔 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C25D11/02 分类号: C25D11/02;C25D11/06;C25D11/26
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 黄美娟;朱思兰
地址: 310014 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种扫描式激光辅助微弧氧化装置及方法,本发明装置无电解槽尺寸束缚,无需超大功率电源,可以进行局部强化或修复处理,降低能耗、提高成膜效率及膜层质量,能够降低微弧氧化起弧电压与能耗,使微弧氧化更容易进行,更快进入到成膜阶段,能够实现对大尺寸工件或复杂型面工件的加工,解决传统加工装置中的面积效应和尖端放电现象,降低工件尺寸对电源输出功率的限制,通过对极间电场的控制,实现特定区域微弧氧化。
搜索关键词: 一种 扫描 激光 辅助 氧化 装置 方法
【主权项】:
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