[发明专利]产生布局图案的方法在审
| 申请号： | 201911056900.7 | 申请日： | 2019-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN111128663A | 公开（公告）日： | 2020-05-08 |
| 发明（设计）人： | 骆文;张世明 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种产生布图案的方法，包括当在由带电粒子束直接地曝露在能量敏感的材料上的布局图案的一或多个特征时，决定第一能量密度，第一能量密度间接地曝露在能量敏感的材料上的布局图案的一或多个特征中的第一特征。此方法也包括当由带电粒子束直接地曝露第一特征时，调整曝露第一特征的第二能量密度。第一特征的总能量密度，包含来自间接曝露的第一能量密度和来自直接曝露的第二能量密度的总合，第一特征的总能量密度维持在大约一阈值能量级，以完全地曝露在能量敏感的材料中的第一特征。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 布局 图案 方法 | ||
【主权项】：
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