[发明专利]产生布局图案的方法在审
| 申请号： | 201911056900.7 | 申请日： | 2019-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN111128663A | 公开（公告）日： | 2020-05-08 |
| 发明（设计）人： | 骆文;张世明 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 产生 布局 图案 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种产生一布局图案的方法，其特征在于，包含：
当由一带电粒子束直接地曝露在一能量敏感的材料中的一布局图案的一或多个特征时，决定一第一能量密度，该第一能量密度间接地曝露到该能量敏感的材料上的该布局图案的所述一或多个特征中的一第一特征；以及
当由该带电粒子束直接地曝露该第一特征时，调整曝露到该第一特征的一第二能量密度，使得由该第一特征接收的一总能量密度是来自间接曝露的该第一能量密度和来自直接曝露的该第二能量密度，并且将该总能量密度维持在一阈值能量级，以完全地曝露在该能量敏感的材料中的该第一特征。
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