[发明专利]激光退火装置和激光退火设备在审
| 申请号： | 201910886061.5 | 申请日： | 2019-09-19 |
| 公开（公告）号： | CN110600367A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 路兆里;赵东升 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/268 | 分类号： | H01L21/268;H01L21/67 |
| 代理公司： | 11262 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 曲鹏;解婷婷 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种激光退火装置和激光退火设备。激光退火装置包括输出激光的激光装置以及将所述激光引导至退火室的光学装置，所述光学装置包括在激光传输光路上依次设置的准直机构、补偿机构和聚焦结构，所述补偿机构用于对激光的初始光斑剖面进行补偿，使初始光斑剖面形成标准对称形态。本发明通过在准直机构与聚焦结构之间设置补偿机构，补偿机构对激光的初始光斑剖面进行优化，使初始光斑剖面形成标准对称形态，消除了初始光斑剖面的变形和偏移，保证了激光光束能量分布的均匀性，而且可以延长激光窗的使用时间。 | ||
| 搜索关键词： | 光斑 补偿机构 激光退火装置 对称形态 光学装置 聚焦结构 准直机构 激光 激光光束能量 激光退火设备 激光传输 激光引导 激光装置 输出激光 依次设置 偏移 激光窗 均匀性 退火室 变形 优化 保证 | ||
【主权项】：
1.一种激光退火装置，其特征在于，包括输出激光的激光装置以及将所述激光引导至退火室的光学装置，所述光学装置包括在激光传输光路上依次设置的准直机构、补偿机构和聚焦结构，所述补偿机构用于对激光的初始光斑剖面进行补偿，使初始光斑剖面形成标准对称形态。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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