[发明专利]一种降温增速的真空渗碳方法有效
申请号: | 201910487218.7 | 申请日: | 2019-06-05 |
公开(公告)号: | CN110042339B | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 崔秀芳;宋圣强;金国;董美伶;刘二宝;杨雨云;刘金娜 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工程大学 |
主分类号: | C23C8/20 | 分类号: | C23C8/20;C23C8/02;C23C8/22 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 岳泉清 |
地址: | 150001 黑龙江*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 一种降温增速的真空渗碳方法,本发明属于热处理及表面工程领域,它为了解决现有真空渗碳技术中存在的渗碳温度高、渗碳周期长等问题。降温增速的真空渗碳处理方法:一、对基材依次进行表面抛光和清洗处理;二、将稀土氧化物粉末与硬质陶瓷粉末混合,得到混合粉末,将基材设置在超音速微粒轰击设备枪头下方,利用混合粉末进行超音速微粒轰击处理,控制喷射速度为300~1200m/s,得到带有纳米‑稀土改性层的基材;三、带有纳米‑稀土改性层的基材放入真空渗碳炉中,炉内抽真空,加热至渗碳温度进行真空渗碳处理。相比于普通的真空渗碳,本发明所采用的复合强化技术可以降低渗碳温度提升真空渗碳效率,缩短渗碳周期且渗层表面硬度更高。 | ||
搜索关键词: | 一种 降温 增速 真空 渗碳 方法 | ||
【主权项】:
1.一种降温增速的真空渗碳方法,其特征在于该真空渗碳方法按以下步骤实现:一、基材准备:对基材依次进行表面抛光和清洗处理,得到清洗后的基材;二、复合前处理:a、混粉:采用球磨机将稀土氧化物粉末与硬质陶瓷粉末混合,得到混合粉末,所述混合粉末中稀土氧化物的含量为5wt%~20wt%;b、超音速微粒轰击:将清洗后的基材设置在超音速微粒轰击设备枪头下方进行超音速微粒轰击处理,控制超音速微粒轰击过程中混合粉末的垂直喷射距离为10~20cm,喷射速度为300~1200m/s,得到带有纳米‑稀土改性层的基材;三、真空渗碳:将步骤二得到的带有纳米‑稀土改性层的基材放入真空渗碳炉中,炉内抽至真空度为1×10‑3Pa以下,加热至渗碳温度进行真空渗碳处理,完成降温增速的真空渗碳处理。
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