[发明专利]基板蒸镀对位系统以及监控像素位置测量的方法和装置有效
| 申请号： | 201910446885.0 | 申请日： | 2019-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN110029322B | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 谢飞;吴建鹏;安成国;宋裕斌 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人： | 李弘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基板蒸镀对位系统以及监控像素位置测量的方法和装置，所述方法，包括：对基板上蒸镀得到的监控像素进行边缘阴影的测量以及位置测量；根据测量的边缘阴影，确定所述监控像素的边缘爬坡距离；根据所述边缘爬坡距离对测量得到的位置数据进行修正。应用本发明能够提升监控像素位置的测量精度，提高确定OLED基板的蒸镀对位补偿量的准确性，从而提高OLED基板的蒸镀良率。 | ||
| 搜索关键词： | 基板蒸镀 对位 系统 以及 监控 像素 位置 测量 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种监控像素位置测量的方法，其特征在于，包括：对基板上蒸镀得到的监控像素进行边缘阴影的测量以及位置测量；根据测量的边缘阴影，确定所述监控像素的边缘爬坡距离；根据所述边缘爬坡距离对测量得到的位置数据进行修正。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910446885.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
