[发明专利]一种阵列基板及其制造方法

摘要

本发明提出一种阵列基板及其制造方法，涉及液晶显示领域，包括步骤：S1：利用第一半透掩膜版进行图案化并进行烘烤形成在第一叠层和第二叠层，第一叠层和第二叠层均依序为第一透明电极层、栅极和栅极保护层；所述栅极保护层在烘烤时用于防止栅极被氧化；S2：利用第二半透掩膜版形成栅极绝缘层、半导体层、第一接触孔以及第二接触孔；S3：利用掩膜版形成位于源极、漏极以及源漏极连接区；S4：利用第三半透掩膜版形成第一绝缘保护层、第二绝缘保护层、第三接触孔以及第四接触孔；S5：利用掩膜版形成位于第三接触孔和第四接触孔内的公共电极。在减少光罩降低成本的同时也能够很好地解决像素电极退火结晶时栅极金属铜发生氧化的问题。

主权项

1.一种阵列基板的制造方法，阵列基板包括位于中间的像素区和位于边缘的端子区，其特征在于，包括以下步骤：S1：在基板上利用第一半透掩膜版进行图案化形成在像素区的像素电极和第一叠层以及位于端子区的第二叠层，第一叠层和第二叠层均依序为第一透明电极层、栅极和栅极保护层；S2：在步骤S1的基础上利用第二半透掩膜版进行图案化形成栅极绝缘层、半导体层、位于像素电极上的第一接触孔以及位于端子区的第二叠层两侧的第二接触孔，并刻蚀掉端子区的第二叠层的栅极保护层；S3：在步骤S2的基础上利用掩膜版进行图案化形成位于像素区的源极和漏极、以及位于端子区的源漏极连接区，其中漏极位于第一接触孔且漏极与像素电极接触，源漏极连接区位于第二接触孔内且与端子区的栅极接触；S4：在步骤S3的基础上利用第三半透掩膜版进行图案化形成由无机绝缘材料形成的第一绝缘保护层、由有机绝缘材料形成的第二绝缘保护层、位于像素区像素电极上方的第三接触孔以及位于端子区的第四接触孔；S5：在步骤S4的基础上利用掩膜版进行图案化形成位于第三接触孔和第四接触孔内的公共电极；其中，所述第一透明电极层、栅极和栅极保护层制作材料分别为ITO、Cu以及IGZO。