[发明专利]激光气体再生装置和电子器件的制造方法有效
| 申请号： | 201880090657.8 | 申请日： | 2018-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN111801855B | 公开（公告）日： | 2023-01-13 |
| 发明（设计）人： | 对马弘朗;田中智史;藤卷洋介;浅山武志;若林理 | 申请（专利权）人： | 极光先进雷射株式会社 |
| 主分类号： | H01S3/225 | 分类号： | H01S3/225 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 于英慧;崔成哲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 激光气体再生装置对从至少一个ArF准分子激光装置排出的排出气体进行再生，并将再生气体供给到至少一个ArF准分子激光装置，该至少一个ArF准分子激光装置与第1激光气体供给源和第2激光气体供给源连接，第1激光气体供给源供给包含氩气、氖气和第1浓度的氙气在内的第1激光气体，第2激光气体供给源供给包含氩气、氖气和氟气的第2激光气体，其中，激光气体再生装置具有：数据取得部，其取得被供给到至少一个ArF准分子激光装置的第2激光气体的供给量的数据；氙添加部，其将包含氩气、氖气和比第1浓度高的第2浓度的氙气在内的第3激光气体添加到再生气体中；以及控制部，其根据供给量对基于氙添加部的第3激光气体的添加量进行控制。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 气体 再生 装置 电子器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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