[发明专利]流体处置结构、光刻设备、以及使用流体处置结构的方法

摘要

本发明提供一种被配置成将浸没流体限制至光刻设备的区域的流体处置结构，所述流体处置结构包括：孔，所述孔在所述流体处置结构中形成以使辐射束经由所述浸没流体行进通过所述孔，所述孔限定将要填充有所述浸没流体的浸没空间；以及内部部分和外部部分；其中所述内部部分和所述外部部分被布置以便在所述内部部分与所述外部部分之间形成可变空间和连接空间，所述连接空间将所述可变空间连接至所述浸没空间，其中在第一平面中所述外部部分相对于所述内部部分是可移动的，以便改变所述可变空间而不是所述连接空间的形状，并且其中所述流体处置结构被配置成在所述可变空间中包含所述浸没流体。