[发明专利]正性光致抗蚀剂组合物、使用其的光致抗蚀剂图案和光致抗蚀剂图案的制造方法有效
| 申请号： | 201880001512.6 | 申请日： | 2018-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN109429511B | 公开（公告）日： | 2022-01-28 |
| 发明（设计）人： | 林敏映;李泰燮;金智慧 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟;梁笑 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及正性光致抗蚀剂组合物、使用其的光致抗蚀剂图案和用于制造图案的方法，所述正性光致抗蚀剂组合物包含含有特定结构的重复单元的丙烯酸类树脂、和光敏酸产生化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 正性光致抗蚀剂 组合 使用 光致抗蚀剂 图案 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种正性光致抗蚀剂组合物，包含：含有以下化学式1的重复单元的丙烯酸类树脂；和光敏酸产生化合物：[化学式1]![]()
其中，在化学式1中，R11和R12各自独立地为氢；经取代或未经取代的C1‑60烷基；经取代或未经取代的C3‑60环烷基；经取代或未经取代的C6‑60芳基；或者经取代或未经取代的含有选自N、O和S中的一个或更多个杂原子的C2‑60杂芳基，n为0至3，R13为C2至C8直链或支化亚烷基，R14为乙烯基或(甲基)丙烯酸酯基，以及L1为直接键；C1至C20亚烷基；经取代或未经取代的C6‑60亚芳基；或者含有选自N、O和S中的一个或更多个杂原子的C2‑60亚杂芳基。
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