[实用新型]磁控溅射镀膜室及镀膜装置有效
| 申请号： | 201820970900.2 | 申请日： | 2018-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN209456557U | 公开（公告）日： | 2019-10-01 |
| 发明（设计）人： | 余荣沾;王忠雨;蔡东锋;陈卫中;张欣;王克宁 | 申请（专利权）人： | 广东欣丰科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 郭晓龙;黄健 |
| 地址： | 529000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种磁控溅射镀膜室及镀膜装置，其中镀膜室包括壳体，壳体相对的两侧壁上分别设有织物入口和织物出口，壳体的内部与抽真空设备相连，壳体的内部设有镀膜辊和多个导辊，镀膜辊和导辊均与驱动设备相连，在驱动设备的驱动下镀膜辊和多个导辊均沿相同的方向转动，以将织物由织物入口运送至织物出口；镀膜辊的下方还设有多个溅射源，多个溅射源与镀膜辊之间形成镀膜间隙，相邻的溅射源之间设有溅射源挡板，溅射源挡板与镀膜辊之间形成有供织物通过的间隙。本实用新型通过在相邻溅射源之间设置溅射源挡板以消除相邻溅射源在溅射时的相互影响，使得织物镀膜层的厚度更加均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射源 镀膜辊 壳体 挡板 导辊 磁控溅射镀膜 本实用新型 镀膜装置 驱动设备 织物出口 织物入口 抽真空设备 方向转动 镀膜层 镀膜室 两侧壁 镀膜 溅射 运送 驱动 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射镀膜室，其特征在于，包括壳体，所述壳体相对的两侧壁上分别设有织物入口和织物出口，所述壳体的内部与抽真空设备相连，所述壳体的内部设有镀膜辊和多个导辊，所述镀膜辊和导辊均与驱动设备相连，在所述驱动设备的驱动下所述镀膜辊和多个所述导辊均沿相同的方向转动，以将织物由所述织物入口运送至所述织物出口；所述镀膜辊的下方还设有多个溅射源，多个所述溅射源与所述镀膜辊之间形成镀膜间隙，相邻的所述溅射源之间设有溅射源挡板，所述溅射源挡板与所述镀膜辊之间形成有供所述织物通过的间隙。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东欣丰科技有限公司，未经广东欣丰科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201820970900.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
