[发明专利]曝光装置、曝光方法、半导体器件及其制造方法在审
| 申请号： | 201810982415.1 | 申请日： | 2018-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN110244517A | 公开（公告）日： | 2019-09-17 |
| 发明（设计）人： | 陈勇辉;张俊 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种曝光装置、曝光方法、半导体器件及其制造方法。该曝光装置包括：测量单元、曝光单元和中转传输单元；测量单元用于放置基底，并测量基底的位置；测量单元包括可拆卸的载盘子单元，载盘子单元用于吸附基底，且载盘子单元与被吸附的基底同步传输；中转传输单元用于固定和传输基底、载盘子单元、基底以及吸附基底的载盘子单元；中转传输单元用于在曝光单元闲置时将测量后的基底以及吸附基底的载盘子单元同步传输至曝光单元，以及用于在测量单元闲置时将未吸附基底的载盘子单元传输至测量单元；曝光单元用于对测量后的基底进行曝光。该技术方案可协调测量时间和曝光时间，提高双台曝光光刻技术的产能。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 盘子单元 测量单元 吸附 曝光单元 传输单元 曝光装置 曝光 半导体器件 同步传输 测量 闲置 传输 可拆卸的 测量基 曝光光 产能 制造 协调 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：测量单元、曝光单元和中转传输单元；所述测量单元用于放置基底，并测量所述基底的位置；所述测量单元包括可拆卸的载盘子单元，所述载盘子单元用于吸附所述基底；所述中转传输单元用于固定和传输所述载盘子单元，或载有所述基底的所述载盘子单元；所述中转传输单元用于在所述曝光单元闲置时将测量后的所述基底以及吸附所述基底的所述载盘子单元同步传输至所述曝光单元，以及用于在所述测量单元闲置时将未吸附所述基底的所述载盘子单元传输至所述测量单元；所述曝光单元用于对测量后的所述基底进行曝光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司，未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810982415.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
