[发明专利]基板处理方法和基板处理装置

摘要

本发明提供一种基板处理方法和基板处理装置。当磷酸容器内的磷酸水溶液的硅浓度达到规定浓度范围的上限值时，通过从磷酸容器排出磷酸水溶液和/或减少返回磷酸容器的磷酸水溶液的量，使磷酸容器内的液量减少到规定液量范围的下限值以下的值。当磷酸容器内的液量减少到规定液量范围的下限值以下的值时，通过向磷酸容器补充磷酸水溶液，使磷酸容器内的液量增加到规定液量范围内的值，并且使磷酸容器内的磷酸水溶液的硅浓度减低到规定浓度范围内的值。

主权项

1.一种基板处理方法，向在表面露出有硅氧化膜和硅氮化膜的基板供给含有硅的磷酸水溶液，对所述硅氮化膜有选择地进行蚀刻，其中，所述基板处理方法包括：磷酸贮存工序，在磷酸容器中贮存向所述基板供给的所述磷酸水溶液；磷酸引导工序，从所述磷酸容器向磷酸喷嘴引导所述磷酸水溶液；磷酸喷出工序，从所述磷酸喷嘴向所述基板的表面喷出所述磷酸水溶液；基板旋转工序，与所述磷酸喷出工序并行，一边将所述基板保持为水平一边以通过所述基板的中央部的铅垂的旋转轴线为中心旋转所述基板；磷酸回收工序，由磷酸回收单元向所述磷酸容器回收从所述磷酸喷嘴供给到所述基板上的所述磷酸水溶液；浓度检测工序，检测所述磷酸容器内的所述磷酸水溶液的硅浓度；液量减少工序，当所述磷酸容器内的所述磷酸水溶液的硅浓度达到规定浓度范围的上限值时，通过从所述磷酸容器排出所述磷酸水溶液和/或减少返回所述磷酸容器的所述磷酸水溶液的量，使所述磷酸容器内的所述磷酸水溶液的液量减少到规定液量范围的下限值以下的值；磷酸补充工序，当在所述液量减少工序中所述磷酸容器内的所述磷酸水溶液的液量减少到所述规定液量范围的下限值以下的值时，通过从与所述磷酸回收单元不同的磷酸补充单元向所述磷酸容器补充磷酸水溶液，使所述磷酸容器内的所述磷酸水溶液的液量增加到所述规定液量范围内的值，并且使所述磷酸容器内的所述磷酸水溶液的硅浓度降低到所述规定浓度范围内的值。