[发明专利]基板处理装置和基板处理方法

摘要

本发提供一种抑制或防止基板间的处理产生偏差的基板处理装置和方法。该装置包括：基板保持单元，保持基板；处理液流通构件，由内壁面划分出与喷出口连通的处理液流通路的至少一部分；处理液供给单元，向处理液流通路供给比常温高的处理液；温度变化单元，从外侧对处理液流通构件的外壁面加热或冷却，使处理液流通构件的温度变化；控制装置，执行基板处理工序和平衡温度维持工序，在基板处理工序中，控制处理液供给单元，向处理液流通路供给比常温高的处理液，从喷出口喷出处理液，对基板实施处理，在平衡温度维持工序中，在未从处理液供给单元向处理液流通路供给处理液的状态下，控制温度变化单元，将处理液流通构件的内壁面维持为热平衡温度。

主权项

1.一种基板处理装置，其中，包括：基板保持单元，保持基板；处理液流通构件，具有内壁面和外壁面，通过所述内壁面划分出与向由所述基板保持单元保持的基板喷出处理液的喷出口连通的处理液流通路的至少一部分；处理液供给单元，用于向所述处理液流通路供给比常温高的高温的处理液；温度变化单元，用于从外侧对所述处理液流通构件的所述外壁面进行加热或冷却，使所述处理液流通构件的温度变化；以及控制装置，执行基板处理工序和平衡温度维持工序，在所述基板处理工序中，所述控制装置控制所述处理液供给单元，向所述处理液流通路供给比常温高的高温的处理液，从所述喷出口喷出所述高温的处理液，从而对由基板保持单元保持的基板实施处理，在所述平衡温度维持工序中，在未从所述处理液供给单元向所述处理液流通路供给处理液的状态下，所述控制装置控制所述温度变化单元，将所述处理液流通构件的所述内壁面维持为热平衡温度。