[发明专利]化学放大胶组合物及其在紫外光刻的应用

摘要

本发明涉及一系列以四苯基呋喃、四苯基吡咯、四苯基噻吩、五苯基吡啶、四苯基双酚A、杯芳烃型双酚A为核的分子玻璃化合物为主体材料，辅以光致产酸剂、溶剂等组合而成的化学放大型光刻胶组合物。将该光刻胶组合物旋涂于基片上可制得厚度均匀的光刻胶薄膜，应用于200‑450nm的紫外光源曝光，尤其适用于365nm I线光刻、248nm深紫外光刻、436nm G线光刻等远场及近场光刻技术，诸如紫外曝光机、365nm激光直写近场光刻、365nm激光干涉光刻等紫外光刻技术。

主权项

1.一种化学放大型光刻胶组合物，包括主体材料、光致产酸剂、溶剂，所述主体材料为选自通式(I)、(II)、(III)、(IV)所示的化合物中的一种或多种，其中，X独立地选自NH、S或O，Y为N，R独立地选自H、OH、酸敏基团，且至少一个R为酸敏基团，所述酸敏基团优选自如下结构：‑O‑CO‑OC_1‑20烷基(例如)或‑O‑CO‑C_1‑20烷基；Z独立地选自H、C_1‑8烷基、‑COOC_1‑8烷基(例如)、R’独立地选自H、OH或酸敏基团，且至少一个R’为酸敏基团，所述酸敏基团独立的优选自‑OC_1‑8烷基、‑OCOOC_1‑8烷基(例如)、所述光致产酸剂为化合物中的一种或几种。