[发明专利]一种黑硅太阳能电池及其制备方法有效
申请号: | 201810001986.2 | 申请日: | 2018-01-02 |
公开(公告)号: | CN108172657B | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
发明(设计)人: | 胡进;蔡赛 | 申请(专利权)人: | 东阳市特意新材料科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/074 | 分类号: | H01L31/074;H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 322100 浙江省金*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及一种黑硅太阳能电池及其制备方法,所述黑硅太阳能电池的制备方法包括:n型硅片表面黑硅层的制备;黑硅层表面的钝化处理;硼掺杂石墨烯/Spiro‑OMeTAD复合活性层的制备;n型硅片背面ZnO/PEI复合插入层的制备;ITO透明导电层的制备;正面电极的制备;背面电极的制备。通过制备硼掺杂石墨烯/Spiro‑OMeTAD复合活性层,改善复合活性层与黑硅层之间的半导体接触性能,进而提高黑硅太阳能电池的光电转换效率。 | ||
搜索关键词: | 制备 黑硅太阳能电池 复合活性 黑硅层 硼掺杂 石墨烯 光电转换效率 背面电极 钝化处理 接触性能 正面电极 插入层 半导体 背面 复合 | ||
【主权项】:
1.一种黑硅太阳能电池的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)n型硅片表面黑硅层的制备;(2)黑硅层表面的钝化处理;(3)硼掺杂石墨烯/Spiro‑OMeTAD复合活性层的制备,其包括:步骤3a,通过湿法转移法将硼掺杂石墨烯转移至黑硅层表面,步骤3b,接着旋涂Spiro‑OMeTAD溶液,多次重复交替执行所述步骤3a和所述步骤3b,然后进行退火处理,以形成所述硼掺杂石墨烯/Spiro‑OMeTAD复合活性层;(4)n型硅片背面ZnO/PEI复合插入层的制备;(5)在所述硼掺杂石墨烯/Spiro‑OMeTAD复合活性层的表面制备ITO透明导电层;(6)正面电极的制备;(7)背面电极的制备。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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